1、采用离子交换树脂制备电子工业超纯水的传统水处理方式,其基本工艺流程为:原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→中间水箱→阳床→阴床→混床(复床)→超纯水箱→超纯水泵→后置iwuchen活性炭过滤器→用水点
2、采用反渗透水处理设备与离子交换设备进行组合制备电子工业超纯水的方式,其基本工艺流程为:原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→中间水箱→反渗透设备→混床(复床)→超纯水箱→超纯水泵→后置保安过滤器→用水点
3、采用反渗透设备与电去离子(EDI)设备进行搭配制备电子工业超纯水的的方式,这是一种制取超纯水的最新工艺,也是一种环保,经济,发展潜力巨大的超纯水制备工艺,其基本工艺流程为:原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→中间水箱→反渗透设备→电去离子(EDI)→超纯水箱→超纯水泵→后置保安过滤器→用水点
4、电子工业超纯水设备通常由多介质过滤器,水过滤活性碳过滤器,钠离子软化器、精密过滤器等构成预处理系统、RO反渗透主机系统、离子交换混床(EDI电除盐系统)系统等构成主要设备系统。原水箱、中间水箱、RO纯水水箱、超纯水水箱均设有液位控制系统、高低压水泵均设有高低压压力保护装置、在线水质检测控制仪表、电气采用PLC可编程控制器,真正做到了无人值守,同时在工艺选材上采用推荐和客户要求相统一的方法,使该设备与其它同类产品相比较,具有更高的性价比和设备可靠性。
5、1、半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路成品、半成品用超纯水;
6、2、超纯材料和超纯化学试剂勾兑用超纯水;
7、3、实验室和中试车间用超纯水;
8、4、汽车、家电表面抛光处理;
9、5、光电子产品;
10、6、其他高科技精微产品;
半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高,对水质的要求也越高。目前我国电子工业部把电子级水质技术分为五个行业标准,分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm,以区分不同水质。
1)、原水箱,功用:贮存系统原水,对进水起调节作用,也对进水中的杂质起一定的沉淀作用。
2)、砂滤器,功用:初步去除水中泥沙、杂质、悬浮物以及其它微粒等降低水的浊度。
3)、碳滤器,功用:利用碳的吸附原理吸附水中异色、异味、余氯等。
4)、保安过滤器,功用:防止大颗粒杂质进入反渗透膜,造成对膜的损坏,保护反渗透膜。
5)、PH调节,功用:通过加碱调节,调节二级反渗透进水PH值在8左右,以脱除CO2,保证二级反渗透产水水质,确保EDI产水及终端产水的稳定。(具体可参考: http://www.ihepafilter.com/)
6)、一级纯水箱,功用:储存反渗透产水,为二级反渗透系统提供水源。
7)、双级反渗透主机,功用:主要是通过反渗透过滤,达到生产纯水之目的(二级反渗透能最大程度确保产水水质,使EDI产水水质更稳定及核能树脂的使用寿命更长)。
8)、CEDI系统,功用:CEDI系统又称连续电除盐技术,通过阳阴离子膜对阳阴离子的选择透过作用以及离子交换树脂对水中离子的交换作用,在电场的作用下实现水中离子的定向迁移,从而达到水的深度净化除盐,并通过水电解产生的氢离子和氢氧根离子对装填树脂进行连续再生。
9)、紫外线杀菌器,功用:通过紫外线杀死水中细菌,确保水质。
10)、膜滤器功用,功用:滤除紫外线杀死的细菌及其它微粒。
11)、双级核能混床,功用:进一步去除水中的离子,使产水水质达到18MΩ?CM。
12)、TOC脱除器,功用:脱除水中的TOC,确保水质。
13)、终端0.1μm膜滤器,功用:杜绝有颗粒物时入超纯水使用点。